纳米显微镜和 TEM

透射电子显微镜观察非常薄的标本

透射电子显微镜 (TEM) 使用电子束操作,可观察非常薄的样品 (~150 nm)。电子通过电磁透镜聚焦,并在荧光屏、照相板或 CCD 照相机上观察图像。 

电子被数百 KV 量级的电势加速,波长约为 0.2nm,远小于光子的波长(约 400nm)。

与入射辐射波长相同数量级的分辨能力受到电磁透镜像差的限制。 

技术重点

我们使用透射电子显微镜 (TEM) 来表征材料并跟踪该技术性能的演变。 

目前,我们的技术设备包括 JEOL 3200FS-HR 和 300kV TEM,配备: 

  • 场发射枪
  • 用于电子能量损失谱和能量过滤成像的柱内能量过滤器 
  • 用于 STEM Z 对比成像的高角度环形暗场探测器 
  • 能量色散 X 射线微量分析。 

它将高分辨率和 0 损失样品成像与分析性能相结合:可以使用 2k x 2k CCD 相机记录图像。该仪器主要用于研究材料的微观结构、位错、晶体学和化学(光谱、线扫描、地图)

JEOL 3200FS-HR 的特点: 

  • 加速电压:300 kV
  • 电子枪:场发射 
  • 分辨率(点对点):0.19nm
  • 光斑尺寸:0.4nm 
  • 单、双倾斜样品架 柱内能量过滤器 
  • 柱内能量过滤器(EF-TEM、EELS) 
  • HAADF
  • XEDS
  • SADP – NBED – CBED
  • 成像:荧光屏、胶片板和轴上 CCD 相机 (2k x 2k)。 

可交付成果

微观结构分析

这种分析可以定量评估热和热机械处理对最重要的纳米结构成分的形态和空间排列的影响: 

  • 化学成分
  • 尺寸和形状 
  • 位置相对于晶粒位错密度和机械变形状态。 

晶体学分析 

晶体学知识允许通过分析电子衍射图案来识别相,并使用 CSM 设计的软件进行解释。 

晶体学分析 

“高分辨率”显微镜 高分辨率模式使我们能够观察原子平面的排列和间距,并强调晶格的缺陷。

EFTEM – 能量过滤 TEM 

精密的电磁滤波器为我们提供了有关微结构组成元素的化学成分的信息。 

能量色散光谱仪 (XEDS)

EDS色散光谱仪(XEDS)以几纳米的空间分辨率定性和定量地对样品的特定点进行化学成分分析。 

评估颗粒尺寸分布

自动图像分析软件计算特定领域中存在的粒子的几何参数(面积、直径、形状因子、周长等),这使我们能够执行各种统计分析。 

样品制备实验室

样品的制备对 TEM 观察的成功起着至关重要的作用。 我们为您提供非有机样品制备方面的丰富经验,尤其是金属和合金。 

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